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利用原子層沉積技術(shù)實(shí)現(xiàn)有機(jī)電致發(fā)光器件的薄膜封裝

長春電子科技學(xué)院姜文龍教授團(tuán)隊與吉林大學(xué)段羽教授團(tuán)隊合作在《發(fā)光學(xué)報》發(fā)表了題為“利用原子層沉積技術(shù)實(shí)現(xiàn)有機(jī)電致發(fā)光器件的薄膜封裝”的綜述文章。重點(diǎn)探究了前驅(qū)體原料、摻雜比率、沉積溫度、ALD脈沖時間和吹掃時間對薄膜沉積性能的影響以及薄膜厚度和封裝性能之間的關(guān)系；分析了ALD制備薄膜的水汽透過率；比較了ALD在單層、有機(jī)-無機(jī)疊層薄膜封裝（Thin-fi