2021-07-11
2023-11-28
2025-01-01
鍍膜機(jī)
手套箱研發(fā)型蒸鍍設(shè)備
手套箱磁控濺射設(shè)備
原子能沉積
手套箱電子束蒸發(fā)
鍍膜控制軟件
手套箱團(tuán)簇式蒸鍍設(shè)備
手套箱Inline式蒸鍍設(shè)備
PA300e
腔室尺寸 ≤300mm(L)×300mm(W)×500mm(H)
極限真空 ≤3×10-5Pa 保壓12小時(shí) 壓強(qiáng)≤5Pa
膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95%
基片尺寸 ≤100mm×100mm
有9個(gè)mask位置 每個(gè)基片對應(yīng)3個(gè)位置
全自動(dòng)控制軟件
PA400e
腔室尺寸 ≤400mm(L)×400mm(W)×600mm(H)
基片尺寸 ≤135mm×135mm
有19個(gè)mask位置 每個(gè)基片對應(yīng)3個(gè)位置
PA500e
腔室尺寸 ≤500mm(L)×500mm(W)×600mm(H)
膜厚均勻性 ≥95% 重復(fù)性 ≥95% 速率穩(wěn)定性≥95%
基片尺寸 ≤156mm×156mm ≤30×30mm 數(shù)量4片
有12個(gè)mask位置 每個(gè)基片對應(yīng)3個(gè)位置
PA600e
腔室尺寸 ≤600mm(L)×600mm(W)×660mm(H)
基片尺寸 ≤210mm×210mm
蒸發(fā)源 4-12任意組合蒸發(fā)源
PA700e
腔室尺寸 ≤700mm(L)×700mm(W)×800mm(H)
基片尺寸 ≤2300mm×300mm
PA400s
PA200d
外形尺寸:1000mm×700mm×1000mm腔室尺寸:Φ300mm×150mm襯底規(guī)格:4-12寸單片溫度: RT-400 oC
簡單易用的圖形用戶界面 (GUI)
利用時(shí)間復(fù)用技術(shù)快速創(chuàng)建、優(yōu)化和定制新的工藝配方
安全、可靠的操作和維護(hù)
獨(dú)特的用戶界面編輯、存儲(chǔ)、使用和復(fù)制工藝方案
快速創(chuàng)建、優(yōu)化和定制新的工藝配方
手套箱
氣體純化
溶劑純化
隔離器
電池
OLED/鈣鈦礦
制藥
3D打印
焊接
鈣鈦礦電池制備工藝及設(shè)備
團(tuán)簇鈣鈦礦制備方案
Oneline鈣鈦礦制備方案
百級凈化
企業(yè)新聞
媒體聚焦
展覽與活動(dòng)
資料下載
FAQ(常見問題)
技術(shù)文章
公司簡介
實(shí)驗(yàn)室
知識(shí)產(chǎn)權(quán)
? 2025 伊特克斯惰性氣體系統(tǒng)(北京)有限公司 All rights reserved